[종합] 검찰, 삼성ㆍSK 'D램 기술' 中에 빼돌린 협력사 임직원 무더기 기소

▲반도체 세척장비 (자료= 서울중앙지검 제공)

검찰이 삼성전자와 SK하이닉스의 D램 반도체 핵심기술을 중국으로 빼돌린 일당 17명을 무더기로 기소했다.

서울중앙지검 영업비밀 유출·정보통신범죄전담부(조상원 부장검사)는 26일 협력 관계인 SK하이닉스의 반도체 제조 및 세정 관련 국가 핵심기술을 중국 경쟁 업체에 유출한 혐의(산업기술보호법위반죄, 부정경쟁방지법 위반)로 A 사 연구소장, 영업그룹장 등 2명을 구속기소했다고 밝혔다.

검찰은 삼성전자 자회사인 B 사의 반도체 세정 장비 관련 첨단기술을 취득해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 혐의(산업기술보호법위반죄 등)로 A 사 공정그룹장, 공장장 및 하청업체 대표 등 3명을 구속 상태로 재판에 넘겼다. 또 범행에 가담한 A 사의 부사장, 품질그룹장, B 사 전직 직원 등 12명(A 법인 포함)을 산업기술보호법위반죄 등으로 불구속 기소했다.

검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황 있다는 정보를 받고 지난해 7월 A 사를 압수수색하며 본격적인 수사에 착수했다.

검찰 수사결과 이들은 SK하이닉스와 협업을 통해 알게 된 국가 핵심기술과 첨단기술을 중국 반도체 경쟁업체로 유출하고, 삼성전자 자회사의 첨단기술을 전직 직원 등을 통해 몰래 취득한 후 중국 수출용 장비 개발에 사용한 것으로 드러났다.

중국 반도체 경쟁업체에 유출된 'HKMG 반도체 제조 기술'과 반도체 세정 레시피 정보 및 수출용 장비 개발에 사용돼 유출될 뻔한 '초임계 세정장비 제작 기술' 등은 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술이다. HKMG 공정이란 D램 반도체의 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술이다. 반도체 정밀도가 향상될수록 파티클(불순물)을 제거하는 반도체 세정 기술의 중요도 역시 증가된다.

10나노급 D램 반도체는 세계적으로 삼성전자와 SK하이닉스, 미국의 마이크론 등 3곳에만 제조 가능하다. 삼성전자와 SK하이닉스가 세계 시장의 70%를 점유하고 있다.

 

검찰은 SK하이닉스, 삼성전자의 10나노급 D램 반도체 제조 공정에 사용되는 최신 세정장비 제작 기술과 세정장비에 입력하는 수치값인 세정 레시피가 유출된 사실 확인했다.

 

검찰 관계자는 "신속한 수사를 통해 HKMG 반도체 제조 기술의 추가적인 국외 유출을 방지하고, 유출 기술을 사용해 제조한 반도체 초임계 세정장비의 중국 수출을 사전에 차단했다"며 "앞으로도 기술유출 사건 등 전문 분야 수사 역량을 강화해 반도체 제조업 등 대한민국 기간산업의 국가 핵심기술, 첨단기술 국외 유출 사범에 대해 엄정 대응할 것"이라고 말했다.