주성은 반도체 소자의 고집적화에 따른 고성능화와 미세가공 기술이 발달함에 따라 온도를 낮추면서 우수한 박막특성을 갖고 높은 생산성을 보유한 장비의 필요성에 맞춰 지난 3년간 약 320억원의 개발비를 투자하여 고성능 및 고생산성을 갖춘 새로운 개념의 세비배치(semi batch) LPCVD 장치를 개발한 것.
이번에 개발한 주성의 LPCVD장치는 기존의 매엽식...
주성은 기존 매엽식(웨이퍼를 한장식 처리하는 방법) 방식에서 세미 배치 방식(Semi-batch type : 웨이퍼를 동시에 여러장 처리하는 방법)으로 회전하는 십자모양의 가스 주입기를 이용해 각 가스 주입기에서 소스 가스와 반응 가스, 퍼지 가스(공간분할 가스)를 회전을 이용, 동시에 분사해 공정단계를 줄임은 물론 밸브 동작 없이 원자층 증착 방식의 효과를...