또 GAA 구조를 적용한 3나노 공정 등 삼성전자 파운드리 미래 기술을 공개했다.
삼성전자 파운드리 사업부장 정은승 사장은 3일(현지시간) 미국 샌프란시스코에서 열린 '국제반도체소자학회(IEDM)'에서 '4차 산업혁명과 파운드리(4th Industrial Revolution and Foundry: Challenges and Opportunities)'를 주제로 기조 연설에 나섰다.
IEDM은 ISSCC, VLSI 학회와 함께 세계 3대...
삼성전자는 현재 파운드리 주력 분야가 14와 10나노 공정이지만 하반기 극자외선(EUV) 장비를 적용한 7나노 공정 제품을 세계 최초로 시험 생산한다. 이어 5나노와 4나노 공정, 신기술인 ‘게이트 올 어라운드(GAA)’를 적용하는 3나노 공정까지 세계 최초 기록을 써 내려갈 계획이다.
3나노 공정까지의 로드맵을 공개하며, 향후 광범위한 첨단 공정 개발과 설계 인프라, SAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)의 지속 확장에 대해 발표했다.
삼성전자 파운드리 사업부 전략마케팅팀장 배영창 부사장은 “지난 한 해, EUV 공정을 적용한 포트폴리오를 강화하는데 주력해왔다”며 “향후 GAA(Gate-All-Around)구조를 차세대 공정에 적용함으로써...