신영환 대표는 2020년 5월 대덕전자 대표이사로 취임해 인공지능(AI), 5G 등 첨단 디지털 산업에 대응해 초미세회로 기판 기술을 개발하는 등 업계를 선도했다. 메모리 시장에서 DDR4에서 DDR5로의 수요 변화를 일찍이 예측하고 박판 및 미세회로 기술을 선행 개발하여 국내 메모리 반도체 기업의 세계시장 석권에 밑거름 역할을 했다는 평가다.
은탑산업훈장은 이종호...
신영환 대덕전자 대표는 2020년 5월 대덕전자 대표이사로 취임해 인공지능(AI), 5G 등 첨단 디지털 산업에 대응해 초미세회로 기판 기술을 개발하는 등 업계를 선도했다. 메모리 시장에서 DDR4에서 DDR5로의 수요 변화를 일찍이 예측하고 박판 및 미세회로 기술을 선행 개발하여 국내 메모리 반도체 기업의 세계시장 석권에 밑거름 역할을 했다는 평가다.
은탑산업훈장은...
산업용 반도체 초순수용 탈기막(MDG), 유해 알코올(IPA), 바이오가스, 질소, 바이오알콜, 극초미세 먼지제거용 분리 등 다양한 업종에 사용된다.
투과증발막은 액체와 액체, 증기와 증기 또는 증기와 기체혼합물을 분리하는 막분리 공정기술이다. 환경분야와 석유화학 생성물 분리정제 등의 다양한 영역에 활용되고 있다.
세프라텍 관계자는 “지난 3년간 환경부 국책과제...
인텔은 이날 파운드리 사업을 강화하기 위해 1.4나노미터 초미세 공정을 2027년 도입하겠다고 선언했다. 또 1.8나노미터 공정을 올 연말부터 양산에 들어간다고 밝혔다. 당초 계획한 양산 시작 시점은 2025년이었는데 1년 앞당겨졌다. 인텔은 지난해 9월 1.8나노급인 18A 공정 반도체 웨이퍼 시제품을 공개했다. 1.8나노미터 공정에서는 MS의 칩을 생산할 계획이다....
이번 과정에는 지난해 반도체 고급인재 양성을 위해 지정된 반도체특성화대학원인 한국과학기술원(KAIST), 울산과학기술원(UNIST), 성균관대학교 석·박사과정 학생이 참여했으며, 현장형 교육의 실효성 제고를 위해 EUV·플라즈마 등 미세패터닝 공정기술에 대해 SK하이닉스·소부장 기업 전문가를 초빙해 사전 교육을 실시했다.
또한 올해 상반기 중...
환경부, '2024년 환경부 주요 정책 추진계획' 발표스마트 예보·홍수방어 인프라 확대 등 물관리 강화…생활 주변 초미세먼지 감축
정부가 지난해 20조 원이 넘는 녹색산업 수주 성과를 올린 것을 바탕으로, 올해 'K-녹색산업'의 해외 진출 규모를 키워 22조 원이 넘는 녹색산업 수출을 달성한다. 5월부터 인공지능(AI) 예보를 전국 지류까지 확대하고, 홍수방어 인프라를...
파운드리 경쟁력은 기술(초미세화 공정)과 캐파(생산능력)가 좌우한다. 삼성전자는 2022년 세계에서 처음 3나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) 공정 양산을 시작했고, TSMC와 2나노 경쟁을 하고 있다. TSMC는 1987년 설립됐다. 삼성전자는 2017년 파운드리 사업부를 출범시켰다. 30년의 업력차를 무리없이 따라잡는 것이 일차적 과제다. 생산능력 강화도 발등의 불이다.
TSMC는...
첨단칩 개발 지원을 위한 초미세 공정 국비 지원 트랙도 올해 신설하고, 파운드리 기업의 시제품 제작 개방 횟수도 지난해 62회에서 올해 72회로 확대한다. 이를 통해 ‘설계-검증-상용화’라는 반도체 개발 전(全) 주기에 대한 팹리스 지원체계를 구축할 계획이다.
소부장 기업 경쟁력 강화를 위해서는 업계의 숙원사업이자 현재 공백 상태에 있는 ‘실증...
미국 인텔 등 후발주자 역시 초미세 공정 기술력 높이기에 박차를 가하고 있다. 이처럼 격화하는 시장 속 삼성전자가 난관을 돌파할 새 전략이 필요하다는 지적이다.
5일 업계에 따르면 TSMC의 일본 구마모토현 파운드리 1공장 개소식이 다음 달 24일(현지시간) 열린다. 앞서 TSMC는 일본 소니, 덴소와 함께 합작법인 JASM을 설립하고, 2022년 4월 공장을 짓기 시작했다....
삼성전자 회장과 최태원 회장은 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문에 동행해 세계적인 반도체 장비 기업 ASML과 반도체 동맹을 공고히 했다. ASML은 삼성전자와 함께 약 1조 원을 투자해 차세대 EUV 장비를 활용한 초미세 첨단 반도체 공정 기술을 개발하는 연구소를 우리나라에 건립한다. SK하이닉스와는 EUV용 수소 가스 재활용 기술을 공동 개발하기로 했다.
미국 업체에 최첨단 초미세화 공정 등과 관련한 기술 및 영업비밀 수십 건을 유출한 사례도 있다. 최신 D램 반도체 공정 기술을 중국 기업에 넘겼다가 덜미를 잡히기도 했다. 삼성전자 ‘복제 공장’을 지으려다 발각된 일도 있다. 삼성전자의 ‘초격차 기술’이 국제적 도둑질의 과녁이 된 것이다.
악성 범죄가 활개를 치는 원인의 하나는 솜방망이 판결 관행이다....
초미세화 공정에 없어서는 안 될 EUV(극자외선) 노광장비를 생산하고 있다. 한 해 생산량은 50여 대에 불과하다. 컨테이너 2개 크기인 EUV 노광장비 한 대당 가격은 3000억~4000억 원에 이른다. 돈이 있다고 아무나 살 수 있는 것도 아니다. 미국 견제를 받는 중국은 돈 보따리를 쥐고도 침만 삼키고 있다.
우리 반도체 간판 기업들은 세계 메모리반도체를 선도하고 있다....
이규복 반도체공학회장은 “EUV 장비를 누가 선점하고, 어떻게 운용하는 지가 반도체 초미세 공정에서 가장 중요하다”며 “이번 협약으로 성능을 더 정확하고, 미세하게 만드는 연구를 같이 하기 때문에 우리 기업이 반도체 선단 공정을 선도할 수 있는 절호의 기회가 생긴 것”이라고 평가했다.
이에 향후 EUV 장비 확보에서도 우리 기업이 우위를 선점할...
삼성전자는 지난 30년간 과감한 투자와 지속적인 기술혁신으로 미세공정의 한계를 돌파하고 있다.
차세대 반도체 구현을 위해서는 EUV 기술 확보가 핵심이라는 판단에 따라, 2000년대부터 ASML과 초미세 반도체 공정 기술 및 장비 개발 협력을 지속했다. 2012년에는 ASML 지분 투자를 통해 파트너십을 강화했다.
이를 통해 △업계 최초 EUV 공정 적용 D램 적용(2000년)...
실제로 노광 공정은 미세하고 복잡한 전자회로를 반도체 웨이퍼에 그려 넣는 기술로 EUV 노광장비를 활용하면 짧은 파장으로 세밀하게 회로를 그릴 수 있다. 특히 ASML이 독점 공급하는 EUV 노광장비는 7나노(㎚, 10억분의 1m) 이하 반도체 초미세공정에 꼭 필요하다.
통상 노광장비 가격은 1000만 달러(약 131억 원) 정도인데, ASML이 생산하는 고사양 장비는 1억8000만...
ASML은 반도체 미세공정을 위한 극자외선 노광장비(EUV)를 생산하는 네덜란드 기업이다. 반도체 초격차는 미세공정 가능 여부가 핵심 요소 중 하나임을 고려할 때, 해당 장비를 유일하게 생산하고 있는 ASML과의 긴밀한 파트너십 구축은 국내 반도체 경쟁력 강화를 위한 중요 과제다.
김태성 교수는 “기존 분자 접합의 구조적인 한계점을 뛰어넘으며, 금속-유기물 계면의 전자 이동을 소자의 구조적 관점에서 바라볼 수 있는 연구로, 향후 반도체 초미세 공정에서 계면 및 표면의 전기·화학적 특성을 정확하게 제어 및 관측하여 반도체 소자 성능 향상에 크게 기여할 수 있을 것”이라고 밝혔다.
특히 국빈 방문 둘째 날인 12일 초미세 공정에 필수인 극자외선(EUV) 노광장비를 전 세계에서 유일하게 생산하는 기업인 ASML의 클린룸을 방문한다.
네덜란드 국빈 방문차 출국을 하루 앞둔 윤 대통령은 10일 공개된 AFP 통신과의 서면 인터뷰에서 "신기술 패권 확보를 위한 국가·지역 간 경쟁이 심화하면서 반도체 산업이 그 어느 때보다 전략적으로...
특히 ASML은 반도체 초미세 공정에 필수인 7나노미터 이하 극자외선(EUV) 노광 장비를 전 세계에서 유일하게 생산하고 있다. 이와 더불어 ASM, NXP반도체 등 중심으로 공과대학과 함께 산학 클러스터가 형성돼 있다.
윤 대통령은 이에 첨단 반도체 생태계를 구축한 네덜란드에 삼성전자, SK하이닉스뿐 아니라 한국의 반도체 소재·부품·장비 업체와 함께 방문한다. 국빈...