한국표준과학연구원(KRISS)은 오는 24일 오전 10시부터 KRISS 행정동에서 '실시간 공정모니터링 분석 진단기술 개발'을 주제로 국내외 산·학·연 전문가들이 참석한 가운데 '제2회 반도체공정진단 워크숍'을 개최한다.
이번 워크숍에서는 플라즈마 공정진단, CVD/ALD 공정 진단, 오염원 및 펌프진단, 관련 데이터처리 개발 현황 등에 대해 집중 논의할 예정이다.
김곤호 서울대 교수의 '전기신호를 이용한 공정 플라즈마 진단 기술 개발 현황', 강상우 KRISS 박사의 'CVD 공정진단 및 오염도평가 연구', 이헌정 삼성전자 수석의 '반도체 설비 Catacterization and Contol' 등의 발표가 진행된다.
특히 카네기멜론대 스트로지바스(Andrzej J. Strojwas) 교수의 '공정과 수율 상관관계의 총체적 모델링', 스트라툼사 마커스 캐버리(Marcus Cabery) 기술총괄팀장의 'RF센서를 이용한 실시간 박막공정진단' 등에 대한 주제로 특별초청 세미나도 열린다.
KRISS 관계자는 "현재 우리나라는 반도체 공정을 실시간으로 모니터링하고 분석할 수 있는 진단기술은 매우 취약한 실정"이라며 "이번 워크숍이 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 높이는 데 기여할 것"이라고 말했다.